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30W/50W/200W半导体激光器

30W/50W/200W 主要用于光伏电池检查,检测是一种基于光学激发和高灵敏相机成像的非接触式检测方法,广泛应用于硅片、太阳能电池片以及其他半导体材料的质量检测。

  • 30/50/200W
    功率可选范围
  • 808±5/915±10nm
    中心波长
  • 10nm
    半波全宽
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  • 产品优势

  • 产品参数

  • 相关产品

产品优势

  • 非接触式检测

    PL检测采用非接触式的方法,对硅片不造成任何物理损伤或污染,确保样品在检测过程中保持完好

  • 高灵敏度

    PL检测能够发现微米级别甚至纳米级别的缺陷和杂质,其灵敏度远高于传统方法

  • 快速高效

    PL检测可以在短时间内处理大量样品,大幅提高生产效率和产品质量控制的效率

产品参数

系列型号
  • JPT-30W
    200w1.png
  • JPT-50W
    200w2.png
  • JPT-200W
    200w1.png
  • 输出功率(W)
  • 中心波长(nm)
  • 中心波长偏差
  • 典型工作距离(mm)
  • 可检硅片尺寸(mm)
  • 配电需求(V)
  • IO接口(V)
  • 平均功耗(W)
  • 出光控制方式
  • 功率调节方式
  • 工作温湿度(℃)
  • 尺寸 (L×W×H)(mm)
  • 重量(kg)
  • 适用工艺
  • 冷却方式
  • JPT-30W

    200w1.png
    • 输出功率(W)
      30
    • 中心波长(nm)
      808
    • 中心波长偏差
      ±5
    • 典型工作距离(mm)
      230~260
    • 可检硅片尺寸(mm)
      ≤230
    • 配电需求(V)
      220
    • IO接口(V)
      白 0~24V+/黑 0~0.5V-
    • 平均功耗(W)
      100
    • 出光控制方式
      GUI/IO接口
    • 功率调节方式
      GUI
    • 工作温湿度(℃)
      20~30;<80%
    • 尺寸 (L×W×H)(mm)
      205×111×123
    • 重量(kg)
      ≈4
    • 适用工艺
      硅片镀膜后工艺
    • 冷却方式
      风冷
  • JPT-50W

    200w2.png
    • 输出功率(W)
      50
    • 中心波长(nm)
      808
    • 中心波长偏差
      ±5
    • 典型工作距离(mm)
      230~260
    • 可检硅片尺寸(mm)
      ≤230
    • 配电需求(V)
      220
    • IO接口(V)
      白 0~24V+/黑 0~0.5V-
    • 平均功耗(W)
      130
    • 出光控制方式
      GUI/IO接口
    • 功率调节方式
      GUI
    • 工作温湿度(℃)
      20~30;<80%
    • 尺寸 (L×W×H)(mm)
      232×140×122
    • 重量(kg)
      ≈5
    • 适用工艺
      硅片扩散后工艺
    • 冷却方式
      风冷
  • JPT-200W

    200w1.png
    • 输出功率(W)
      200
    • 中心波长(nm)
      915
    • 中心波长偏差
      ±10
    • 典型工作距离(mm)
      230~260
    • 可检硅片尺寸(mm)
      ≤230
    • 配电需求(V)
      220
    • IO接口(V)
      白 0~24V+/黑 0~0.5V-
    • 平均功耗(W)
      560
    • 出光控制方式
      GUI/IO接口
    • 功率调节方式
      GUI
    • 工作温湿度(℃)
      20~30;<80%
    • 尺寸 (L×W×H)(mm)
      450×235×70
    • 重量(kg)
      ≈10
    • 适用工艺
      硅原片以后工艺
    • 冷却方式
      水冷
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